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選擇真空鍍膜機的類型

真空鍍膜廠根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。

真空系統(tǒng)由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。

燒烤儀表的選擇

根據(jù)需烘烤的結(jié)構(gòu)提出烘烤溫度、材質(zhì)以及所需配備相應(yīng)儀表測量。

選擇報警系統(tǒng)

完善的報警系統(tǒng)，對真空室體、擴散泵斷相、缺水、氣壓、電源負(fù)載的過壓、過流等異常情況進行聲光報警。

選擇爐體材質(zhì)

爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，東城耳機配件真空電鍍，真空鍍膜有很多優(yōu)點：如對環(huán)境無污 染，是綠色環(huán)保工藝；對操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜（包括電弧蒸發(fā)、電子qiang蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù)）、濺射鍍膜（包 括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù)），這些方法統(tǒng)稱物理氣相沉積，簡稱為PVD。與之對應(yīng)的化學(xué)氣相沉積，簡稱為CVD技術(shù)。行業(yè)內(nèi)通常所說的“IP”離子鍍膜，是因為在PVD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強調(diào)離子的作 用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。

電子束蒸發(fā)的大優(yōu)點在于：電子束的光斑可以隨意調(diào)整，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，真空鍍膜廠在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，耳機配件真空電鍍加工價格，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，耳機配件真空電鍍哪里有，但是對靶材的要求高，不能象電子qiang一樣節(jié)約資源。目前運用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡單的一種，所以運用非常廣。

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